晶元測試中高溫對測試探針機械性能的影響

       隨著半導體測試技術的不斷發(fā)展，高溫晶元測試已經(jīng)逐漸成為主流，并且測試溫度逐年升高。在不斷改良硬件設施的性能外，如何通過持續(xù)改進工藝制程和參數(shù)來更好的保證高溫晶元測試的穩(wěn)定性和安全性尤為重要

　　在晶元測試過程中探針卡的探針需要與晶元芯片表面PAD良好接觸以建立起測試機到芯片的電流通路。接觸的深度需要被控制在微米級，按照晶元層結構設計不同，通常在0.5微米到1.5微米之間較適宜。過淺會造成接觸不良導致測試結果不穩(wěn)定，過深則會有潛在的破壞底層電路的風險。而最直接影響接觸深度的物理量就是OD(Over-Drive)。與室溫測試相比，由于整套測試硬件在高溫環(huán)境下會發(fā)生熱膨脹，且在測試過程中會表現(xiàn)出與熱源距離相關的持續(xù)波動性，要保證高溫測試的穩(wěn)定安全，需要一套特殊的工藝流程來維持OD的相對穩(wěn)定性。

      在探針卡的初始設計過程中必須考慮后期需要工作的溫度范圍。從PCB以及各種配件的材質(zhì)選擇、元器件的耐溫性能、探針位置的預偏移量分析設計等多方面入手，盡量從源頭降低高溫對探針卡的形變影響。

　　高溫生產(chǎn)過程中的工藝控制也是減小測試影響的最重要的環(huán)節(jié)。一般通過預烤針和動態(tài)烤針、對針兩方面的操作來降低高溫對測試的影響。